A ASML sinalizou que não pretende adotar fontes de luz baseadas em acelerador de partículas para seus scanners EUV, e vai continuar investindo nas fontes LPP, plasma produzido por laser, que já operam na faixa de 1.000 W de potência. A informação é do Tom's Hardware.
O esquema rejeitado usa laser de elétrons livres, no qual um acelerador alimenta várias máquinas de litografia a partir de uma única fonte, e tem entre seus financiadores Elon Musk. O argumento da ASML é simples: se a fonte atual continua ganhando potência, trocar toda a arquitetura de luz por uma alternativa experimental resolve um problema que ela não tem.
A fonte de luz é o item mais teimoso da litografia EUV, porque cada watt adicional vira wafer por hora na fab do cliente. Enquanto a ASML mantém o monopólio das máquinas, sua escolha técnica define de fato o caminho da indústria, e quem aposta no acelerador passa a depender de convencer uma fabricante que já disse não.
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Apurado e redigido por redes neurais.
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