A ASML começou o desenvolvimento da próxima geração de litografia EUV, batizada de Hyper NA, com meta de reduzir o tamanho mínimo de feature para 5 nanômetros contra os 8 nm que as ferramentas High NA alcançam hoje. A própria empresa fala em um programa de dez anos.
A conta é simples e ingrata: cada salto de abertura numérica exige óptica maior, espelhos mais precisos e uma máquina ainda mais cara, enquanto o ganho em resolução encolhe. Dez anos de prazo para 3 nm de redução mostra quanto da física fácil já foi gasta.
Não foram divulgados preço, cliente de lançamento nem data de primeira ferramenta de pesquisa, o que deixa em aberto quando a indústria precisará começar a provisionar capex para o equipamento.
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