Jensen Huang afirmou que a China deve desenvolver ferramentas próprias de litografia avançada para fabricar chips até 2030, num prazo que ele estima em três a quatro anos. Na avaliação do CEO da NVIDIA, reproduzida pela Tom's Hardware, o país já está praticamente lá e a conquista é apenas questão de tempo.
A previsão é dele, não um dado de mercado, e Huang tem interesse claro no argumento: se controle de exportação não impede a China de chegar ao topo da cadeia, restringir venda de GPU americana perde sentido estratégico. Ainda assim, é uma tese com data e com teste: em 2030 dá para conferir.
Litografia avançada é o elo mais duro de copiar. A EUV da ASML combina fonte de luz de plasma, óptica de precisão extrema e décadas de propriedade intelectual acumulada. Huang não detalhou se fala de EUV ou de alternativas como imersão multipatterning levada ao limite, distinção que muda completamente o tamanho da façanha.
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