A Intel afirma ter cruzado a marca de 1 milhão de wafers rodados em ferramentas High-NA EUV, litografia de abertura numérica ampliada que imprime padrões menores em uma única exposição. Pelo relato, é mais do que todo o restante da indústria junto.
O número interessa menos pelo troféu e mais pelo que significa em maturidade de processo: High-NA saiu do laboratório e virou rotina de linha, com o aprendizado de defeito e rendimento que só vem de repetir a operação milhares de vezes. Quem opera a máquina primeiro acumula a curva de aprendizado primeiro.
Em paralelo, a Intel empurra o formato de fotomáscara 6x12, maior que o padrão atual, para reduzir o número de exposições por wafer e cortar custo. Falta saber quanto disso se converte em rendimento competitivo nos nós avançados e em clientes de foundry.
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