A tecnologia chinesa de litografia por ultravioleta extremo está num estágio comparável ao da ASML em 2004, na avaliação de um analista citado pelo Tom's Hardware. Isso coloca Pequim mais de duas décadas atrás do que hoje roda nas linhas de N2 da TSMC.
O ponto mais duro do diagnóstico não é o EUV, é o passo anterior. Apesar dos rumores recorrentes, não existe evidência de que qualquer fabricante chinês de equipamento consiga produzir scanners de litografia por imersão em quantidade, ferramenta que sustenta os nós avançados desde a década passada.
A distinção importa para calibrar o risco de substituição. Protótipo de laboratório e demonstração pontual não são o mesmo que uma máquina reprodutível, com rendimento e serviço de campo, que uma fab possa comprar às dezenas.
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